A dél-koreai konszern bejelentette, hogy kifejlesztette a világ első 10 nanométeres gyártási eljárással készülő System-on-Chipjét, amely a saját továbbfejlesztett FinFET-technológiáján alapul. Ez lesz a világ első ilyen chipje. A gyártás már el is kezdődött.

Az aktuális 14 nanométeres gyártási eljárással összehasonlítva az új chipgeneráció 27 százalékkal nagyobb számítási teljesítményt kínál. A 10 nanométeres gyártási eljárásra való áttérés a teljesítmény növelése mellett az energiafogyasztást is csökkentette 40 százalékkal, ráadásul így ostyánként akár 30 százalékkal több chip készíthető. A Samsung a Triple Patterning nevű technikát használja azért, hogy biztosítsa a chipek kis méretét. Jelenleg az óriáscég még az eljárás első generációját teszteli. A kereskedelmi termékekhez már a továbbfejlesztett második generációt alkalmazná.

Az új SoC várhatóan a Galaxy S8-ban mutatkozhat be, az okostelefont a Samsung az év elején, alighanem a jövő évi Mobil Világkongresszuson jelentheti be. Jong Shik Yoon, a vállalat alelnöke kiemelte, hogy a 10 nanométeres FinFET-technológián alapuló első tömeges gyártás azt mutatja, hogy mekkora előnnyel rendelkeznek a fejlett gyártási technológiák területén. Az ügyfelekkel és a partnerekkel közösen azon fognak dolgozni, hogy egy ökorendszert alkossanak meg a 10 nanométeres gyártási eljárás számára.

Doga

Forrás: www.sg.hu